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Downstream management of modern semiconductor vacuum tools
Author(s) -
Gennermann Dirk
Publication year - 2000
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200002)12:1<29::aid-vipr29>3.0.co;2-7
Subject(s) - chemistry , flammable liquid , nanotechnology , materials science , organic chemistry
Ablagerungen im Abgasbereich (Downstream ∼) von Vakuumanlagen der modernen Halbleiterproduktion verringern deutlich deren Produktivität. Zum einen begrenzt häufige Wartung der Anlagen die Standzeit, zum anderen entstehen durch Ablagerungen eine Vielzahl von schädlichen Partikeln im Sub‐µm‐Größenbereich, die die Ausbeute der Chip‐Produktion verringern. Weiterhin können toxische oder leicht entzündliche Gase in Depositionen eingelagert werden und bei Belüften der Abgasleitung ein ernsthaftes Sicherheitsrisiko für das Produktionspersonal darstellen. Nur individuelle Prozesslösungen für den Abgasbereich können diese Probleme deutlich verringern oder sogar komplett eliminieren.