Premium
Study of the plasma of the reactive low voltage ion plating process
Author(s) -
Strauss G. N.,
Pulker H. K.
Publication year - 2000
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/1522-2454(200002)12:1<25::aid-vipr25>3.0.co;2-v
Subject(s) - plasma , ion , chemistry , nitride , analytical chemistry (journal) , materials science , physics , composite material , layer (electronics) , organic chemistry , quantum mechanics , chromatography
Die für den RLVIP Beschichtungsvorgang und die Qualität der erhaltenen Schichten relevanten physikalischen Grössen sind der einfachen Beobachtung nicht zugänglich. Die an der Schichtbildung beteiligten Ionenarten, ihre Energieverteilung, der Gesamt ionenstrom und die effizienten Ionisierungsmechanismen der black box Plasma werden untersucht. Korrelation zwischen den gemessenen Plasmadaten und den Schichteigenschaften werden aufgezeigt und diskutiert.