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Säurekorrosion und Korrosionsinhibition auf atomarem Maßstab
Author(s) -
Magnussen O. M.,
Vogt M. R.,
Scherer J.,
Lachenwitzer A.,
Behm R. J.
Publication year - 1998
Publication title -
materials and corrosion
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.487
H-Index - 55
eISSN - 1521-4176
pISSN - 0947-5117
DOI - 10.1002/(sici)1521-4176(199803)49:3<169::aid-maco169>3.0.co;2-u
Subject(s) - dissolution , chemistry , sulfuric acid , metal , polymer chemistry , inorganic chemistry , organic chemistry
Die Oberflächenstruktur und die mikroskopischen Mechanismen der Auflösung von Cu(100) Elektroden in Salz‐ und Schwefelsäurelösungen wurden mittels hochauflösender in‐situ Rastertunnelmikroskopie im Bereich niedriger Auflöseraten untersucht. Der Abbau auf der reinen Oberfläche erfolgt ausschließlich an Substratdefekten in Form atomarer Stufen und hängt stark von der Anionenspezies ab. In Anwesenheit von Fremdmetallen kann die Auflösung sowohl durch Pinning‐Effekte inhibiert als auch mittels Induktion von Ätzlöchern beschleunigt werden. In Gegenwart inhibierender, organischer Adsorbatschichten ist die Ablösung von Cu‐Atomen an den Stufen deutlich verlangsamt und der Korrosionsprozess wird durch die bei höheren Potentialen einsetzende Bildung von Ätzlöchern bestimmt.