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Plasmaborieren – Untersuchungen zum Einfluß der Glimmentladung beim Borieren in einer BCl 3 ‐H 2 ‐Ar‐Atmosphäre
Author(s) -
Rodríguez Cabeo E.,
Rie K.T.
Publication year - 2000
Publication title -
materialwissenschaft und werkstofftechnik
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.285
H-Index - 38
eISSN - 1521-4052
pISSN - 0933-5137
DOI - 10.1002/(sici)1521-4052(200005)31:5<345::aid-mawe345>3.0.co;2-w
Subject(s) - glow discharge , boriding , chemistry , nuclear chemistry , analytical chemistry (journal) , materials science , plasma , physics , chromatography , inorganic chemistry , boride , quantum mechanics
Mit Hilfe der optischen Emissionsspektroskopie (OES) werden beim Plasmaborieren in einem BCl 3 ‐H 2 ‐Ar‐Gemisch verschiedene Plasmakomponenten identifiziert, die zur Charakterisierung des Plasmazustandes dienen. Durch zusätzliche Abgasuntersuchungen mittels Massenspektrometer wird auf den Reaktionsmechanismus in Abhängigkeit der eingestellten Prozeßparameter eingegangen. Wesentliche Einflußfaktoren für das Plasmaborieren mittels BCl 3 ergeben sich durch die Korrelation der Meßergebnisse mit den erzielten Schichteigenschaften. Dabei zeigt sich, daß durch Parameteroptimierung korrosive Reaktionen an der Substratoberfläche in den Hintergrund geraten. Das Plasmaborieren mittels BCl 3 wird damit einen wesentlichen Schritt in Richtung industrielle Umsetzung gebracht.