Premium
Polymere für die 193‐nm‐Mikrolithographie: regioreguläre 2‐Alkoxycarbonylnortricyclen‐Polymere durch kontrollierte Cyclopolymerisation von sperrigen Norbornadiencarbonsäureestern
Author(s) -
Niu Q. Jason,
Fréchet Jean M. J.
Publication year - 1998
Publication title -
angewandte chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
eISSN - 1521-3757
pISSN - 0044-8249
DOI - 10.1002/(sici)1521-3757(19980302)110:5<685::aid-ange685>3.0.co;2-x
Subject(s) - substituent , chemistry , monomer , polymer , polymer chemistry , stereochemistry , organic chemistry
Gleich zwei Aufgaben hat der tert ‐Butylrest: Als sperriger Substituent im Monomer 1 begünstigt er den Verlauf der radikalischen Cyclopolymerisation mit Maleinsäureanhydrid zum regioregulären Nortricyclenpolymer 2 . In diesem kann er durch photochemisch freigesetzte Säuren abgespalten werden, wodurch das Polymer in wäßriger Base löslich wird. Damit kann 2 als Resist in der 193‐nm‐Mikrolithographie eingesetzt werden, wobei Auflösungen von <0.2 nm erreicht werden können.