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In situ Hochdruck‐ und Hochtemperatur‐Untersuchungen an Siliciumsuboxiden mittels energiedispersiver Röntgenbeugung
Author(s) -
Friede B.,
Jansen M.
Publication year - 1998
Publication title -
zeitschrift für anorganische und allgemeine chemie
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.354
H-Index - 66
eISSN - 1521-3749
pISSN - 0044-2313
DOI - 10.1002/(sici)1521-3749(199807)624:7<1159::aid-zaac1159>3.0.co;2-w
Subject(s) - materials science
Die röntgenamorphen Siliciumverbindungen Si 2 O 3 , H 2 Si 2 O 4 , HSiO 1.5 und SiO wurden unter Hochdruck‐ und Hochtemperaturbedingungen mit energiedispersiver Röntgenbeugung (EDXD) in situ untersucht. Dazu wurde die Vielstempel‐Hochdruckapparatur MAX‐80 am HASYLAB, DESY Hamburg, verwendet. Bei vorgegebenem Druck von 45 kbar wird durch thermisch induzierte Disproportionierungsreaktionen außer bei SiO stets die Bildung von Coesit beobachtet. Kommerzielles SiO blieb unter den HP/HT‐Bedingungen röntgenamorph, was darauf hindeutet, daß kein Silicium(II)‐oxid im Festkörper vorliegt, sondern bereits ein auf atomarer Ebene disproportioniertes Gemenge aus Silicium und Siliciumdioxid.