Caracterização de camadas antirrefletoras para células solares utilizando espectrofotometria UV/Vis e raios-X

Resumo Foram depositados filmes de óxido de alumínio sobre silício e vidro para aplicação como camada antirrefletora para células solares através de Deposição por Camadas Atômicas a 100°C, 150°C, 200°C e 250°C. A espessura e o índice de refração dos filmes foram medidos por elipsometria, obtendo índices que variam em torno de 1,6 e espessuras que variam de forma proporcional à temperatura. Foram feitas medidas de transmitância por espectrofotometria no vísivel, cujos dados obtidos foram submetidos ao software PUMA, em que se obtém outros parâmetros óticos, como coeficiente de absorção. A partir dos dados gerados pelo software, foram extraídos os valores do gap ótico dos filmes, que variam em torno de 3,5 eV.