Plazma Poli(etilen oksit) Filmlerin Dielektrik Kaybının Kalınlığa Bağlılığı
Author(s) -
Hulusi Ulutaş
Publication year - 2018
Publication title -
cumhuriyet science journal
Language(s) - Turkish
Resource type - Journals
eISSN - 2587-246X
pISSN - 2587-2680
DOI - 10.17776/csj.399267
Subject(s) - dielectric , relaxation (psychology) , analytical chemistry (journal) , dielectric loss , thin film , materials science , glass transition , activation energy , plasma , loss factor , deposition (geology) , chemistry , composite material , polymer , nanotechnology , organic chemistry , optoelectronics , social psychology , physics , paleontology , sediment , biology , psychology , quantum mechanics
Plazma poli (etilen oksit) (pPEO) ince film orneklerinin dielektrik ozellikleri oda sicakliginda incelendi. Farkli kalinliklardaki ince film ornekleri, 5 W plazma bosaltma gucunde plazma destekli fiziksel buhar depozisyonu (PAPVD) teknigi ile elde edildi. Film kalinliklari 20, 100, 250, 500 nm’dir. Artan film kalinligi ile dielektrik sabitinin arttigi gozlenmistir. Dielektrik kayip ve frekans iliskisi ile belirlenen relaksasyon zamanlari, artan kalinlik ile daha yuksek frekanslara kaymaktadir. Film kalinligina ilaveten, isitma surecleri bir diger parametre olarak tanimlandi. Bu amacla, ince film ornekleri sirasiyla isitilmis ve sogutulmustur. Sogutma surecindeki dielektrik kaybin maksimum ve minimumunun, isitma surecindeki maksimum ve minimumunun belirlendigi frekanslardan daha alcak frekanslarda meydana geldigi gozlenmistir. Bu sonuclar, daha ince filmlerde olu tabakanin etkisini gosterebilir. Isitma surecinden sonra, dielektrik sabiti ve dielektrik kayip davranisindan, capraz baglanma yogunlugunun isitma etkisiyle arttigi gozlenmistir. Bu etki PAPVD'nin urunu olan serbest radikaller arasinda ek tepkimelere neden olabilir. Ayrica dinamik camsi gecis sicakliklari hesaplandi. Bu sicakliklar olu tabaka yaklasimi etkisini ispatlamaktadir.
Accelerating Research
Robert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom
Address
John Eccles HouseRobert Robinson Avenue,
Oxford Science Park, Oxford
OX4 4GP, United Kingdom