English (United Kingdom)

https://curated-unify.zendy.io/wp-json/zendy-region/v1/featured_content/oa?rat=en

https://curated-unify.zendy.io/wp-json/zendy-region/v1/highlighted_journal/

Global: Zendy Plus annual

Presents the access of premium content as premium feature

Premium Content

Presents the keyphrase highlighting as premium feature

Keyphrase Highlighting

Presents the summarisation as premium feature

Summarisation

Insights

Presents the pdf analysis as premium feature

PDF Analysis

Presents the zaia usage as premium feature

ZAIA

Global: Zendy Tools annual

Global: Zendy Free Plan

Global: Zendy Tools monthly

Global: Zendy Plus monthly

Die Uberwachung und zielgerichtete Beeinflussung technischer Plasmen erfordert die messtechnische Bestimmung ihrer inneren Zustandsgrosen, vor allem der Elektronendichte und der mittleren Elektronenenergie. Der Begriff „Plasmadiagnostik“ umfasst alle Einrichtungen und Verfahren, die fur eine solche Messung der Zustandsgrosen eines Plasmas herangezogen werden konnen. Von den bekannten Methoden sind jedoch nur wenige fur den Einsatz in einem industriellen Umfeld geeignet. Eine industriekompatible Plasmadiagnostik muss robust und stabil sein, soll eine eindeutige und kalibrationsfreie Auswertung ermoglichen, und darf den zu uberwachenden Prozess weder elektrisch noch chemisch storen. Im Hinblick auf Anschaffung, Unterhalt und Platzbedarf mussen die Kosten vertretbar sein. Im Fall schichtabscheidender Plasmaprozesse sind diese Forderungen besonders schwer zu erfullen. Nahezu alle bekannten Diagnostiken scheiden als ungeeignet aus: Optisch-spektroskopische Verfahren (Optical Emission Spectroscopy, Optical Absorption Spectroscopy) sind zu aufwendig und liefern nur indirekte Aussagen; Massenspektroskopie scheitert an dem unzureichenden Zugang (sowie an den Kosten), konventionelle elektrische Diagnostik (mittels Langmuir-Sonden) wird durch die abgeschiedenen dunnen Schichten erheblich verfalscht. Auch das Plasmametrologieverfahren SEERS (Self Excited Electron Resonance Spectroscopy) ist nicht geeignet, da es eine Hochfrequenzanregung der Plasmen voraussetzt.

6.2.2 Prozesstaugliche Plasmadiagnostik auf Basis der Multipol-Resonanz-Sonde