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ア ノー ド酸化 に よ りバ ルブ金属 の表 面 に生成 す るバ リ ヤー皮膜 の構造,性 質,お よび皮成長 時 における皮膜 内 のイオ ン移動過 程 につ いて,著 者 らは主 に基礎 的な視点 か ら研究 を行 って い る。 しか しな が ら,A1お よびTa のア ノー ド酸化 は これ までの電 解 コ ンデ ンサ ーへの応用 ばか りで な く,TFT―LCDの ゲー ト絶縁 膜,電 子 ビー ム リソグラフ ィーお よび大型 表示 デバ イス用 のMIMカ ソー ドエ ミッターな どの新 たな分野 において も重 要性 を 増 してお り,こ れ らの新 たな応 用分野 で は素子 の安 定性 と関連 して皮膜 の構造 と性質 に大 きな関心が よせ られて い る。そ こで本稿 で は,バ ルブ金属 をア ノー ド酸化 した 時,ど の よ うな場 合 に どの ような皮膜 が生成す るのか, さ らに用途 に応 じた"tailor-made"な 皮膜 の創 製 は可 能 で あるのか,な どの点 につ い てAlお よびTaの 場 合 を中心 に著者 らの見解 を述 べてみ たい。

Anodizing Processes for Electronic Devices. Anodic Oxide Films on Valve Metals-Structures and Properties.