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Se investigaron los parametros de reactividad del grafeno extendido (grafeno negro con simetria D2h) y el nitruro de boro (h-BN) (grafeno blanco con simetria C2v), ambos con dimensiones de 1.0 nm2, usando la teoria del funcional de la densidad (DFT) combinada con la metodologia HCTH/GGA/DNP. Para la estabilidad estructural se considero el criterio de obtencion de autovalores positivos de la matriz hessiana. Para obtener los parametros de reactividad (potencial quimico, dureza quimica, gap e indice electrofilico) se consideraron los orbitales moleculares HOMO y LUMO; ademas, se reportan la densidad de estados molecular (DOS) y las propiedades electricas y electronicas. Los resultados indican que el grafeno blanco es mucho mas estable, pero mas reactivo que el grafeno negro, debido a los valores obtenidos para la dureza quimica (1,157 eV y 0,329 eV, respectivamente), el potencial quimico (2,39 eV y 3,85 eV, respectivamente) y el gap (2,313 eV y 0,657 eV respectivamente). Los valores del indice electrofilico indican que el grafeno negro podria adsorber sobre su superficie alguna molecula prefiriendo el proceso de fisisorcion (e=0,0 eV), mientras que al grafeno blanco podria tener preferencia por la quimisorcion dado que se observan valores diferentes de cero (e=0,28 eV).

PARÁMETROS DE REACTIVIDAD DEL GRAFENO NEGRO VS. GRAFENO BLANCO DE DIMENSIONES DE 1,0 NM2: ESTUDIO QUÍMICO CUÁNTICO COMPUTACIONAL