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物 質 の 表 面 に 他 の物 質 を コ ー テ ィ ン グす る こ と は 、 電 解 メ ッキ な どの 方 法 で 古 くか ら行 わ れ て い る.コ ー テ ィ ン グ とい う方 法 に よ り,既 存 の 材 料 の特 徴 を 活 か しな が ら既 存 の 材 料 に は 無 い 新 規 な特 性 を 表 面 に付 与 す る こ と が で きる.近 年 で は科 学 技 術 の 進 歩 と と もに 材 料 に対 す る要 求 も多 様 化 して お り,表 面 特 性 に 影 響 を 与 え る コー テ ィ ン グ膜 の組 成 や構 造 を制 御 で きる 真 空 中 で の 成 膜 プ ロセ ス が 重 要 な 役 割 を 担 っ て い る.一 般 に 真 空 で の 成 膜 プ ロセ ス は化 学 気 相 法(CVD:chemical vapor deposition) と物 理 蒸 着 法(PVD:physical Vapor deposition)に 大 別 さ れ る.し か し.こ れ らの 方 法 も化 学 的 手法 を 用 い な が ら プ ラ ズマ を併 用 す る な ど,近 年 で は 複 合 化 が 進 み,名 称 が 意 味 す る よ う な 明 確 な 区 別 は 薄 れ て き て い るの が 現 状 で あ る.本 稿 で 述 べ る イ オ ン ビー ム ア シ ス トは,PVD法 の 基 本 的 技 術 で あ る 真 空 蒸 着 法 と イオ ン注 入 法 を組 み 合 わせ た 複 合 技 術 で あ る. 真 空 蒸 着 法 は 最 も 一般 的 な 薄 膜 作 製 法 で,欧 米 で は 太 平洋 戦 争 前 か ら レ ン ズの 反射 防 止 膜 を作 製 す る た め に 用 い られ た とい わ れ て い る.一 方,イ オ ン注 入 法 は 半 導 体 へ の 適 用 段 階 か ら,高 輝 度 イ オ ン源 の 開 発 な どに よ り鋼

Processes of Thin Film Formation Using Ion Beam Assist.