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桁 ず っ 大 き くな っ て お り,こ の ま ま順 調 に研 究 が進 め ば1990年 代 に出 力1MJ級 の ガ ラ ス レ ー ザ ー に よ る工 業 化 試 験 装 置 も実 現 で き る見 通 し と な って きた 。 大 阪 大 学 で は,1967年 よ り高 出 力 ガ ラ ス レー ザ ー 及 び各 種 光 学 部 品 の 開 発 を始 め た 。1983年 12月 に は 出 力 エ ネ ル ギ ー20kJの 激 光XII装 置 (GXII)1)に よ る核 融 合 実 験 を開 始 し,1985年1 月 には 世 界最 大 のKDP結 晶(有 効 径350mm)を 導 入 し て12ビ ー ム の グ リー ン化 に成 功 し,爆 縮 の 高 効 率 化 を図 っ た。その結 果,同 年9月 には核 融 合 実 験 に よ る中 性 子 数1.25×1012個(当 時 と し て は 世 界 最 高 記 録)を 発 生 させ るの に成 功 した 。 米 国 で は,ロ ー レ ン ス リバ モ ア 国 立 研 究 所 を 中 心 と して核 融 合 研 究 用 の 高 出 力 ガ ラ ス レー ザ ー装 置 の 開 発 を行 な っ て お り,1985年 よ り世 界 最 大 の ガ ラ ス レー ザ ー 「NOVA」(10ビ ー ム構 成,出 力100kJ)を 用 い て高 密 度 爆 縮 実 験 を開 始 し,本 年1月 に は世 界 最 高 中 性 子 発 生 数1013 個 を記 録 した 。 高 出 力 ガ ラ ス レー ザ ー シ ス テ ム に お い て,光 学 素 子 に生 じる損 傷 が 一 般 に レー ザ ー出 力 エ ネ ル ギ ー を制 限 す る。 従 っ て,光 学 素 子 の レー ザ ー 耐 力 を高 め る こ と が重 要 で あ り,こ の た め に 基 板 の 各 種 洗 浄 法,各 種 蒸 着 法,高 耐 力 化 を 目 的 と し た膜 設 計 等 に よ っ て蒸 着 膜 の レーザ ー耐 力 を向上 させ て い る が,現 状 で は十 分 に満 足 で きな い 。 蒸 着 膜 で は 十 分 な レーザ ー 耐 力 を有 す る反 射 防止(AR)膜 を製 作 す る こ と が で きな い た め, 最近 で は 光 学 ガ ラ ス 表 面 を化 学 的 に処理 して屈 折率勾配をもたせ,不 均質膜 を製作する技術が 開 発 され た 。 こ の 不 均 質 膜 はAR膜 と して の機

Coating Technique of Highly Damage Resistant Antireflection Film Produced by Chemical Treatment