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Este trabalho apresenta a técnica de eletrodeposição de tântalo em meio de fluoretos fundidos, seguida de tratamento térmico para formação do carbeto de tântalo, como uma alternativa de pré-tratamento para tubos de grafite utilizados em determinações analíticas de espectrometria de absorção atômica em forno de grafite. Os experimentos de eletrodeposição foram executados utilizando-se como solução eletrolítica a mistura eutética LiF-NaF-KF com adição de 15% em massa de K2TaF7. Os ânodos de tântalo foram provenientes de sucata comercial de tântalo, o cátodo foi o próprio tubo de grafite a ser revestido. O revestimento de tântalo foi obtido com alta eficiência de corrente a 750 ° C, em densidade de corrente catódica de 20 mA.cm-2 e tempo de eletrólise de 120 min., sob atmosfera controlada de argônio. O tratamento térmico realizado em atmosfera de argônio, possibilitou a formação de uma perfeita camada de carbeto de tântalo, confirmada através de análise de difratometria de raios X. O depósito, analisado por microscopia eletrônica de varredura (M.E.V.), mostrou-se liso, aderente ao substrato, sem porosidades, incrustações ou microtrincas. This paper presents tantalum electrodeposition in molten fluorides followed by thermal treatment, as a pre-treatment technique to graphite tubes used in spectrometry of atomic absorption in graphite oven. The experiments were carried out using the eutectic FLINAK with addition of 15% (weight %) of K2TaF7. The tantalum anodes were made of tantalum commercial scrap; the cathode was the graphite tube to be electroplated. Tantalum coatings were obtained with high current efficiency at 750 omicron C temperature, 20 mA.cm-2 current density and 120 minutes electrolysis time, under controlled argon atmosphere. The thermal treatment under argon atmosphere was effective to obtain a perfect tantalum carbide layer; X-ray diffraction analysis confirmed tantalum carbide formation. Based on the scanning electronic microscopy analysis results, it was found that the tantalum carbide deposits were adherent to the substrate and were free of porosities, incrustations and microcracks

Tratamento para obtenção de TaC em superfície de grafite. Parte II: eletrodeposição em meio de fluoretos fundidos