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Zur Realisierung extrem feiner Strukturen spielen direkte Laserschreibprozesse, basierend auf Zwei-Photonen-Absorptionsverfahren (2PA), eine zentrale Rolle in der Mikro- und Nanofabrikation. Dafür ist neben einem Lasersystem ein hochpräzises Positioniersystem notwendig. Meist basieren diese Positioniersysteme auf Prinzipien, die ohne zusätzliche Stiching-Verfahren nur kleine Positionierbereiche ermöglichen. Für piezoelektrische Tische sind zum Beispiel nur einige hundert Mikrometer möglich. Auf Galvanometer-Scannern basierten Systemen können sogar nur Positionierbereiche von wenigen zehn Mikrometern realisiert werden. Um ohne zusätzliche Stiching Verfahren größere Fertigungsbereiche mit hoher Präzision für Mikro- und Nanostrukturierung zu ermöglichen, wurde ein Aufbau aus einem Femtosekundenlaser für 2PA und einer Nanopositionier- und Nanomessmaschine (NMM-1) entwickelt [3]. Die NMM-1 wurde an der TU Ilmenau zusammen mit der SIOS Meßtechnik GmbH entwickelt, mit einem Positioniervolumen von 25mm×25mm×5mm und einer Positionierauflösung im Sub-Nanometerbereich. Dieser Aufbau wurde in den letzten Jahren weiter entwickelt und Strukturbreiten konnten reduziert werden [2]. Der Schwerpunkt liegt dabei auf der Entwicklung einer funktionalen Einheit aus Femtosekundenlaser und NMM-1. Dies soll die Komplexität erhöhen und die Homogenität der geschriebenen Strukturen stark verbessern.

Erweiterungen zum Aufbau eines zwei Photonen basierten direkten Laserschreibers zur großflächigen, hochpäzisen Nanostrukturierung