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1909年にスイスのSchoop氏によって開発された溶射技術 は,厚膜創製プロセスとして各種産業分野における重要な基 盤技術となっている.本技術は,開発以来約百年の節目を過 ぎ,数がmから数mm程度の厚膜形成が可能な表面処理技術 の代表として今日多くの工業分野で活用されている.近年, 特に注目を浴びている溶射法としては,粒子を溶かさず,遊 動エネルギーを主に利用して成股するコールドスプレー1) (Cold Spray,以下CSという)法が挙げられる.このCS按 は,作動ガスの高温化など装鰹の高性能化やアプリケーショ ンの可能性提案から商用レベルでの適用事例などが紹介され るなど益々その助向が賑やかになってきている. CSの基本 特許1), 2)は,米臥欧州で出願されてから今年で15年 (1995年6月30日以前に出願公告されているため,以降は20 年)が経過し,その特許の存続期限が終了する.その意味で も新たな展開の可能性が芽生える時となっている. 本報では,このCS法について概説し,最新助向について 解説する.最新装置,付着メカニズム,あるいは新しいアプ リケーション等に関する仔細は,本特集の次号以降の各解説 を読んでいただければ幸いである.

1201 Promising Field in New Thermal Spray Technology"Cold Spray"