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De nombreuses applications necessitent des sources XUV a haut taux de repetition avec un important nombre de photons XUV par impulsion. Potentiellement ces sources peuvent etre obtenues par generation d'harmoniques d'ordre eleve avec un laser fondamental a haute cadence. Cependant, la faible energie et la longue duree des impulsions delivrees par ces systemes laser exigent de focaliser fortement le faisceau fondamental afin d'atteindre des eclairements adequats pour la generation d'harmoniques (∼ 1014  W/cm2 ). Ceci s'avere generalement defavorable pour l'efficacite du processus qu'il convient d'optimiser. Dans ce travail, une etude numerique permet de definir des conditions generales d'optimisation de la generation d'harmoniques en forte focalisation et nous observons la signature d'un accord de phase parfait. Ces conditions sont reproduites experimentalement et nous obtenons une optimisation de l'emission harmonique avec un nombre de photons XUV (harmoniques d'ordres 15-17 et 19) emis dans du Xe superieur a 1012  s−1 a la cadence de 100 kHz.

Génération d'harmoniques d'ordre élevé en régime de forte focalisation à 100 kHz