English (United Kingdom)

https://curated-unify.zendy.io/wp-json/zendy-region/v1/featured_content/oa?rat=en

https://curated-unify.zendy.io/wp-json/zendy-region/v1/highlighted_journal/

Global: Zendy Plus annual

Presents the access of premium content as premium feature

Premium Content

Presents the keyphrase highlighting as premium feature

Keyphrase Highlighting

Presents the summarisation as premium feature

Summarisation

Insights

Presents the pdf analysis as premium feature

PDF Analysis

Presents the zaia usage as premium feature

ZAIA

Global: Zendy Tools annual

Global: Zendy Free Plan

Global: Zendy Tools monthly

Global: Zendy Plus monthly

Le champ d'application des sources flash X de puissances moyennes élevées s'est considérablement élargi ces dernières années. Longtemps utilisées pour l'observation des phénomènes ultra rapides, ces sources dont les spécificités peuvent être fort différentes (puissance rayonnée, domaine spectral, durée de l'impulsion, taux de répétition) trouvent aujourd'hui applications dans des domaines aussi variés que la cinematographic, la radiographie éclair, l'analyse, la médecine, la cristallographie, la micro-électronique, la physico-chimie des plasmas et les lasers. Nous avons développé et optimisé une source flash X compacte dont le fonctionnement est basé sur la production d'une décharge électrique THT très brève (temps de montée < 30 ns, fwhm < 60 ns) et de forte énergie (quelques joules) entre deux électrodes placées sous vide résiduel. L'impulsion haute tension est délivrée au moyen d'un générateur multi-lignes commuté par un roto-spark (temps de commutation < 10 ns). La diode X conventionnelle dont le corps est en quartz est optimisée pour un fonctionnement en mode réflexion pour des tensions pouvant atteindre environ 250 kV. C'est une diode facilement démontable composée essentiellement d'une cathode creuse conique et d'une anode pointe. Plusieurs matériaux d'électrodes (tungstène, molybdène, laiton, et acier) ont été testés. Les meilleurs résultats ont été obtenus avec une cathode en laiton et une anode en tungstène pour laquelle la stabilité de la décharge est meilleure et l'ablation la plus faible. Les doses X ont été mesurées à travers une fenêtre de mylar (350 um d'épaisseur) au moyen de dosimètres de différentes sensibilités (SEQ5 et SEQ6 de Saphymo-phy). L'évolution temporelle des impulsions X a été caractérisée à l'aide d'une diode PIN rapide (Hamamatsu S1722-03) dont la réponse a été calibrée. La pression résiduelle de fonctionnement, comprise entre 0.04 et 0.8 mbar suivant le gaz utilisé, est assurée à l'aide d'une pompe primaire. L'efficacité de conversion de l'énergie électrique stockée dans le système en énergie de rayonnement X dépend de plusieurs paramètres critiques faisant notamment intervenir la tension appliquée à la diode, la nature et la géométrie des électrodes, la distance interélectrodes, la pression résiduelle et la nature du gaz introduit en pression contrôlée dans la diode X. Ainsi, les caractéristiques de l'émission X (dose, durée de l'impulsion, taux de

Étude paramétrique d'une source X impulsionnelle créée par décharge rapide THT dans le vide ou dans les gaz basse pression