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Resume: Les emissions des plasmas laser dans les domaines X et XUV sont suffisamment intenses pour constituer des sources d'analyse d'autres plasmas. La configuration experimentale ou les faisceaux laser disponibles sont repartis en deux categories, l'une etant utilisee pour former le plasma a etudier et l'autre servant a la creation du rayonnement d'analyse, est donc couramment rencontree. Dans le domaine du rayonnement X (de 1 a 10 KeV) les diagnostics ainsi realises sont la radiographie et la spectroscopic d'absorption. Les applications de la radiographie sont relatives aux mesures de vitesse des zones denses de cibles planes ou spheriques et aux mesures de densite de la matiere pour les microballons en phase finale d'implosion. Les parametres accessibles au moyen de la spectroscopie d'absorption sont la profondeur optique et par confrontation avec des modeles theoriques la composition ionique du plasma, sa densite et sa temperature electroniques. Dans le domaine XUV (de la cinquantaine a la centaine d'eV), une selection spectrale du rayonnement est obtenue par association de miroirs multicouches avec des filtres metalliques minces. L'obtention d'informations sur le gradient de densite electronique dans la zone sondee passe par des phenomenes de refraction du rayonnement sonde. Des exemples correspondants aux deux domaines sont presentes.

Applications des sources X et XUV à l'étude des plasmas créés par laser