Optimasi Aplikasi Kontrol PI pada Tekanan di Continuous Stirred Tank Reactor (CSTR) menggunakan Response Surface Methodology (RSM)

AbstrakReaktor kimia adalah tempat terjadinya reaksi kimia, baik dalam ukuran kecil seperti tabung reaksi sampai ukuran yang besar seperti reaktor skala industri. Reaktor tangki pengaduk kontinyu (CSTR) adalah bejana dimana reaktan ditambahkan dan produk dikeluarkan sementara isi didalam bejana diaduk dengan kuat dengan agitasi internal atau secara internal (atau eksternal) merecycle isinya. Tujuan dari penelitian ini yaitu untuk menentukan nilai parameter Kc dan Ti, kontrol yang tepat agar diperoleh respon controller terbaik. Sistem kontrol Proportional Integral and Derivatif (PID) merupakan kontroler mekanisme umpan balik (Feed Back) yang biasanya dipakai pada sistem kontrol industri. Response Surface Methodology (RSM) atau biasa disebut metode permukaan respon adalah sekumpulan metode-metode matematika dan statistika yang digunakan dalam pemodelan dan analisis, yang bertujuan untuk melihat pengaruh beberapa variabel kuantitatif terhadap suatu variabel respon dan untuk mengoptimalkan variabel respon tersebut. Adapun metodologi dari penelitian ini adalah membuat model steady state reactor CSTR menjadi model dynamic, kemudian membuat model kontrol dengan menentukan parameter PI controller menggunakan RSM, setelah itu melakukan tuning parameter kc dan ti terhadap kontrol PI dengan melakukan gangguan pada setpoint. Hasil dari aplikasi sistem kontrol PI maka didapat waktu respon tercepat dengan nilai kc= 1,85, ti=1,15 dengan waktu 0,5 menit.Kata kunci: continuous stirred tank reactor (CSTR), controller PI, set point