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Dünnschichtanlagen zur Herstellung von flachen Bildschirmen
Author(s) -
Gegenwart Rainer
Publication year - 1992
Publication title -
vakuum in forschung und praxis
Language(s) - German
Resource type - Journals
SCImago Journal Rank - 0.213
H-Index - 13
eISSN - 1522-2454
pISSN - 0947-076X
DOI - 10.1002/vipr.2230040109
Subject(s) - materials science , physics
Die Herstellung von flachen Bildschirmen erfordert Dünnschichtverfahren, die auch aus der Mikroelektronik bekannt sind. Ein wesentlicher Unterschied liegt jedoch in den Substratgrößen. Die Abscheidung von Metallen, Isolatoren und Halbleitern erfolgt mit Sputterund CVD Verfahren in großflächigen Durchlaufanlagen. Zur Strukturierung der Substrate mit Trockenätzverfahren werden statische Einzelsubstratanlagen eingesetzt.
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