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Les plasmas de X-pinch sont connus pour constituer des sources X quasi-ponctuelles applicables au sondage radiographique eclair. Ils sont couramment alimentes par des grands generateurs electriques pulses delivrant une impulsion de haute tension a temps de montee rapide, typiquement moins de 100 ns. Un generateur LC (40kV, 200kA) tres compact a ete utilise pour alimenter des X-pinches a fils de Cu, Mo et de W avec un temps de montee du courant de 200 ns. On enregistre un pic d'emission X avec un faible jitter temporel. Une imagerie de penombre integree en temps donne une dimension de source inferieure a 15 μm dans la region au-dessus de 2,4 keV. Une emission totale superieure a 80 mJ et une duree d'emission de 1,5 ns sont obtenues. On peut observer une source X unique mais aussi une structure de source double ou superieure. Des mesures spectrales recentes sont presentees pour des fils de Cu et de Mo: raies de CuXX et CuXXI (850-1100 eV) et raies du Mo XXXIII (2,4-2,7 keV).

Source X quasi ponctuelle par X-pinch en régime sub-μs